IT 之家 2 月 1 日音信，ASML 总裁兼首席施行官 Christophe Fouquet 在上月末的公司 2024 年第四季度财报电话会议上暗意，该企业的首台第二代 0.55 ( High ) NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5200 行将以"早期器用"的身份启动发货，用于技巧进修度考证。

▲ EXE:5000 系统

EXE:5200 是现存初代 High NA EUV 光刻机 EXE:5000 的阅兵款，把柄 Christophe Fouquet 的说法，该型号"更相宜多量量分娩"。而 EXE:5000 行为初期版块主要用于 High NA EUV 光刻技巧的竖立。

从 ASML 光刻系统的迭代限定来看，EXE:5200 展望将领有更高的晶圆浑沌量（IT 之家注：EXE:5000 为每小时 185 片以上），同期复旧更为玄虚的后 2nm 逻辑半导体工艺。

▲ NXE:3800E 系统

Christophe Fouquet 还提到，其 0.33 ( Low ) NA EUV 光刻机的最新式号 NXE:3800E 已在工场杀青每小时 220 片的筹备晶圆浑沌量，较初期的 185 片进一步提高，比前一代的 NXE:3600D 已朝上 37.5%火星电竞CHINA，充分进展了结构阅兵带来的上风。